Concari, S. B., Buitrago, R. H., Risso, G., Cutrera, M. E., & Battioni, M. R. (1999). Silicio microcristalino intrínseco depositado por PECVD de alta frecuencia a muy baja temperatura. Asociación Física Argentina.
Cita Chicago Style (17a ed.)Concari, Sonia Beatriz, Román Horacio Buitrago, Graciela Risso, Miriam Edith Cutrera, y Mario Rubén Battioni. Silicio Microcristalino Intrínseco Depositado Por PECVD De Alta Frecuencia a Muy Baja Temperatura. Asociación Física Argentina, 1999.
Cita MLA (8a ed.)Concari, Sonia Beatriz, et al. Silicio Microcristalino Intrínseco Depositado Por PECVD De Alta Frecuencia a Muy Baja Temperatura. Asociación Física Argentina, 1999.
Precaución: Estas citas no son 100% exactas.