Silicio microcristalino intrínseco depositado por PECVD de alta frecuencia a muy baja temperatura

Este trabajo se centra en determinar correlaciones entre las propiedades ópticas y de transporte eléctrico con las condiciones de deposición, de películas de silicio microcristalino preparadas sobre vidrio corning 7059 en un reactor de PECVD a alta frecuencia de R.F. La dilución en hidrógeno del gas...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Concari, Sonia Beatriz, Buitrago, Román Horacio, Risso, Graciela, Cutrera, Miriam Edith, Battioni, Mario Rubén
Formato: Artículo publishedVersion
Lenguaje:Español
Publicado: Asociación Física Argentina 1999
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v11_n01_p220
Aporte de:
Biblioteca Digital - Facultad de Ciencias Exactas y Naturales (UBA) de Universidad de Buenos Aires

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