Modelo de la descarga eléctrica que excita a un láser químico de HF iniciado a partir de SF₆ y C₃H₈

Se presenta un modelo simple que simula la cinética de las sustancias químicas presentes en la cavidad láser (SF₆ y C₃H₈) con las provenientes de la descarga eléctrica, a fin de predecir los valores observados de la intensidad de salida y la evolución temporal del pulso láser de HF de un dispositivo...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Bernal, María Teresa, Mosquera, Carlos Felipe, Raffo, Carlos Alberto, Ladaga, Juan Luis, Sancho, Eduardo Guillermo
Lenguaje:Español
Publicado: 1995
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v07_n01_p049
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Descripción
Sumario:Se presenta un modelo simple que simula la cinética de las sustancias químicas presentes en la cavidad láser (SF₆ y C₃H₈) con las provenientes de la descarga eléctrica, a fin de predecir los valores observados de la intensidad de salida y la evolución temporal del pulso láser de HF de un dispositivo desarrollado en nuestro laboratorio. El modelo supone composición homógenea del gas: se desprecian las causas que alteran esta homogeneidad (tales como gradiente de temperatura, arcos, etc.). Se presentan gráficos de concentraciones de especies en el tiempo (en el lapso de duración del pulso), y se compara la potencia de salida calculada, con los resultados experimentales