Ion implantation in semiconductors ; proceedings /

Detalles Bibliográficos
Autor Corporativo: International Conference on Ion Implantation in Semiconductors Garmisch-Partenkirchen, Germany
Otros Autores: Ruge, I. (ed.), Graul, J. (ed.)
Formato: Acta de conferencia Libro
Lenguaje:Inglés
Publicado: Berlin ; New York : Springer-Verlag, 1971.
Materias:
Ion implantation > Congresses.
Semiconductors > Congresses.
Aporte de:Registro referencial: Solicitar el recurso aquí
Bibliotecas (UNCuyo) de Universidad Nacional de Cuyo
Descripción
Notas:2 ejs.
Descripción Física:506 p. : il. ; 26 cm.
Bibliografía:Incluye referencias bibliográficas.
ISBN:3540056661

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