The patent journal
Guardado en:
| Formato: | Electrónico Revista |
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| Lenguaje: | Inglés |
| Publicado: |
New York, NY :
Aspen Law & Business,
c2001-
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| Acceso en línea: | Available in Business Source Complete. |
| Aporte de: | Registro referencial: Solicitar el recurso aquí |