The patent journal

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Detalles Bibliográficos
Formato: Electrónico Revista
Lenguaje:Inglés
Publicado: New York, NY : Aspen Law & Business, c2001-
Materias:
Patent laws and legislation > United States > Periodicals.
Patents > United States > Periodicals.
Acceso en línea:Available in Business Source Complete.
Aporte de:Registro referencial: Solicitar el recurso aquí
Bibliotecas (UCSF) de Universidad Católica de Santa Fe

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