Silicio nanocristalino como material de base en celdas solares

Se presentan los primeros resultados obtenidos en la deposición de láminas delgadas de silicio nanocristalino, utilizando toda la tecnología del silicio amorfo hidrogenado. Mediante la incorporación de hidrógeno en los gases de reacción y aumentando la potencia de R.F. se logran films compuestos por...

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Buitrago, Román Horacio, Schmidt, Javier, Koropecki, Roberto, Arce, Roberto, Risso, Gustavo Armando, Cutrera, Miriam
Formato: Articulo
Lenguaje:Español
Publicado: 1998
Materias:
Acceso en línea:http://sedici.unlp.edu.ar/handle/10915/155011
Aporte de:
Descripción
Sumario:Se presentan los primeros resultados obtenidos en la deposición de láminas delgadas de silicio nanocristalino, utilizando toda la tecnología del silicio amorfo hidrogenado. Mediante la incorporación de hidrógeno en los gases de reacción y aumentando la potencia de R.F. se logran films compuestos por cristales dé diámetro menor a 30 nm. Las propiedades electro-ópticas medidas en estos films lo muestran promisorio como material de base para dispositivos solares de simple o múltiple juntura.