Costa, D. D. S., Huck Iriart, C., Kellermann, G., Giovanetti, L. J., Craievich, A. F., & Requejo, F. G. (2015). In situ study of the endotaxial growth of hexagonal CoSi2 nanoplatelets in Si(001).
Cita Chicago Style (17a ed.)Costa, Daniel Da Silva, Cristian Huck Iriart, Guinther Kellermann, Lisandro José Giovanetti, Aldo F. Craievich, y Félix Gregorio Requejo. In Situ Study of the Endotaxial Growth of Hexagonal CoSi2 Nanoplatelets in Si(001). 2015.
Cita MLA (8a ed.)Costa, Daniel Da Silva, et al. In Situ Study of the Endotaxial Growth of Hexagonal CoSi2 Nanoplatelets in Si(001). 2015.
Precaución: Estas citas no son 100% exactas.