Estructura electrónica de defecto profundo y vacancia neutra en silicio mediante un método de primeros principios

Mediante la teoría de la funcional densidad, pseudopotenciales escalares relativistas conservadores de la norma, se han estudiado en un esquema autoconsistente, la estructura electrónica del defecto Cd en Silicio en sitio sustitucional así como la vacancia neutra en silicio Si:V°. Mediante el método...

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Casali, Ricardo Antonio, Caravaca, María de los Angeles
Formato: Artículo publishedVersion
Lenguaje:Español
Publicado: Asociación Física Argentina 1993
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v05_n01_p297
Aporte de:
Descripción
Sumario:Mediante la teoría de la funcional densidad, pseudopotenciales escalares relativistas conservadores de la norma, se han estudiado en un esquema autoconsistente, la estructura electrónica del defecto Cd en Silicio en sitio sustitucional así como la vacancia neutra en silicio Si:V°. Mediante el método de supercelda se simuló el defecto aislado. Se estudio la estructura de bandas de la supercelda en direcciones de alta simetría. Se analiza el comportamiento del gas de electrones de valencia de ambos sistemas respecto al silicio puro. Se halló: a) alta concentración espacial de la perturbación en la densidad de carga tanto en Si:Cd como en Si:V°, b) un nivel triplemente degenerado en G y R para ambos sistemas que se separa dando lugar a una banda de poca dispersión en la dirección Γ→R