Mahmud, Z., Gordillo, G., Gassa, L., & Ventura D'Alkaine, C. (2016). Control de aditivo tiourea en la solución de electrodeposición de cinc por EIS. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales.
Cita Chicago Style (17a ed.)Mahmud, Z., G. Gordillo, L. Gassa, y C. Ventura D'Alkaine. Control De Aditivo Tiourea En La Solución De Electrodeposición De Cinc Por EIS. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales, 2016.
Cita MLA (8a ed.)Mahmud, Z., et al. Control De Aditivo Tiourea En La Solución De Electrodeposición De Cinc Por EIS. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales, 2016.
Precaución: Estas citas no son 100% exactas.