Deposición electroquímica de fosfuro de indio
La deposición electroquímica de un compuesto casi estequiométrico de fosfuro de indio fue obtenida a partir de soluciones acuosas de hexaflúorfosfuro de amonio y cloruro de indio sobre substratos de titanio, silicio y grafito en diversas condiciones de pH, temperatura, agitación, geometrías y dispos...
Guardado en:
| Autores principales: | , , |
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| Lenguaje: | Español |
| Publicado: |
1996
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| Acceso en línea: | https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v08_n01_p173 |
| Aporte de: |
| Sumario: | La deposición electroquímica de un compuesto casi estequiométrico de fosfuro de indio fue obtenida a partir de soluciones acuosas de hexaflúorfosfuro de amonio y cloruro de indio sobre substratos de titanio, silicio y grafito en diversas condiciones de pH, temperatura, agitación, geometrías y disposiciones del cátodo y del ánodo con respecto al flujo, densidades de corriente y tiempos de deposición. Las deposiciones fueron realizadas a corriente constante. Los estudios de microscopía óptica, microscopía electrónica de barrido y microsonda electrónica revelan la presencia de películas, cristales aislados y granos. Los granos presentan diversos tamaños y morfologías formados por la coalescencia de cristales más simples y por la electrodeposición preferencial. Se determinaron algunas de las variables que influyen en la morfología de los cristales y en el tamaño de los mismos. Además se presenta aquí la puesta a punto del dispositivo experimental para la deposición electroquímica del fosfuro de indio |
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