Control de aditivo tiourea en la solución de electrodeposición de cinc por EIS

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En este trabajo se analiza la influencia de la concentración de tiourea en el proceso de deposición de cinc por medio de técnicas electroquímicas. Se ha encontrado una concentración óptima del aditivo en cuanto a que los depósitos son de más calidad y resultan ser más refinados y nivelados. Como se...

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Mahmud, Z., Gordillo, G., Gassa, L., Ventura D'Alkaine, C.
Formato: Informe Técnico
Lenguaje:Español
Publicado: 2016
Acceso en línea:http://hdl.handle.net/20.500.12110/technicalreport_n00013
Aporte de:
Biblioteca Digital - Facultad de Ciencias Exactas y Naturales (UBA) de Universidad de Buenos Aires

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