Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas

Mostrar todas las versiones(2)

Presentamos una técnica de medición de reflectancia en tiempo real para analizar, en el transcurso del anodi- zado electroquímico de Silicio, el crecimiento de una Película de Silicio Poroso (PSP). Empleando además la determinación independiente del espectro de reflectancia de la PSP seca, logra...

Descripción completa

Guardado en:

Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Toranzos, Víctor José, Ortiz, Guillermo Pablo, Busso, Arturo Juan, Koropecki, Roberto Román
Formato:	Artículo
Lenguaje:	Español
Publicado:	Asociación Física Argentina 2026
Materias:	Capaz múltiples nanoestructuradas Espejos dieléctricos Silicio poroso Anodizado electroquímico
Acceso en línea:	http://repositorio.unne.edu.ar/handle/123456789/60001
Aporte de:	RIUNNE - Repositorio Institucional de la Universidad Nacional del Nordeste (UNNE) de Universidad Nacional del Nordeste

id	I48-R184-123456789-60001
record_format	dspace
spelling	I48-R184-123456789-600012026-02-06T13:00:05Z Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas Toranzos, Víctor José Ortiz, Guillermo Pablo Busso, Arturo Juan Koropecki, Roberto Román Capaz múltiples nanoestructuradas Espejos dieléctricos Silicio poroso Anodizado electroquímico Presentamos una técnica de medición de reflectancia en tiempo real para analizar, en el transcurso del anodi- zado electroquímico de Silicio, el crecimiento de una Película de Silicio Poroso (PSP). Empleando además la determinación independiente del espectro de reflectancia de la PSP seca, logramos correlacionar la porosidad y el espesor de la película con la densidad de corriente del anodizado. Esta información es útil para diseñar espejos dieléctricos con una sintonización óptima de su banda de reflexión. We present a technique of measurement of reflectance in real time to analyze, in the course of the elec- trochemical etching of Silicon, the growth of Silicon Porous Film (SPF). Using in addition the independent determination of the reflectance spectrum from the dry PSP, we manage to correlate the porosity and the thick- ness of the film with current density of anodization. This information is useful to design dielectric mirrors with an optimal tuning of its band of reflection. 2026-02-06T11:13:33Z 2026-02-06T11:13:33Z 2008 Artículo Toranzos, Víctor José, et al., 2008. Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas. ANALES AFA. La Plata: Asociación Física Argentina, vol. 20, no. 1, p. 65-68. E-ISSN 1850-1168. 0327-358X http://repositorio.unne.edu.ar/handle/123456789/60001 spa https://anales.fisica.org.ar/index.php/analesafa/article/view/98/124 openAccess http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/ar/ application/pdf p. 65-68 application/pdf Asociación Física Argentina ANALES AFA, 2008, vol. 20, no. 1, p. 65-68.
institution	Universidad Nacional del Nordeste
institution_str	I-48
repository_str	R-184
collection	RIUNNE - Repositorio Institucional de la Universidad Nacional del Nordeste (UNNE)
language	Español
topic	Capaz múltiples nanoestructuradas Espejos dieléctricos Silicio poroso Anodizado electroquímico
spellingShingle	Capaz múltiples nanoestructuradas Espejos dieléctricos Silicio poroso Anodizado electroquímico Toranzos, Víctor José Ortiz, Guillermo Pablo Busso, Arturo Juan Koropecki, Roberto Román Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas
topic_facet	Capaz múltiples nanoestructuradas Espejos dieléctricos Silicio poroso Anodizado electroquímico
description	Presentamos una técnica de medición de reflectancia en tiempo real para analizar, en el transcurso del anodi- zado electroquímico de Silicio, el crecimiento de una Película de Silicio Poroso (PSP). Empleando además la determinación independiente del espectro de reflectancia de la PSP seca, logramos correlacionar la porosidad y el espesor de la película con la densidad de corriente del anodizado. Esta información es útil para diseñar espejos dieléctricos con una sintonización óptima de su banda de reflexión.
format	Artículo
author	Toranzos, Víctor José Ortiz, Guillermo Pablo Busso, Arturo Juan Koropecki, Roberto Román
author_facet	Toranzos, Víctor José Ortiz, Guillermo Pablo Busso, Arturo Juan Koropecki, Roberto Román
author_sort	Toranzos, Víctor José
title	Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas
title_short	Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas
title_full	Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas
title_fullStr	Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas
title_full_unstemmed	Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas
title_sort	propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas
publisher	Asociación Física Argentina
publishDate	2026
url	http://repositorio.unne.edu.ar/handle/123456789/60001
work_keys_str_mv	AT toranzosvictorjose propiedadesopticasinsitudesistemasdecapasmultiplesnanoestructuradas AT ortizguillermopablo propiedadesopticasinsitudesistemasdecapasmultiplesnanoestructuradas AT bussoarturojuan propiedadesopticasinsitudesistemasdecapasmultiplesnanoestructuradas AT koropeckirobertoroman propiedadesopticasinsitudesistemasdecapasmultiplesnanoestructuradas
_version_	1859884094800789504

Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas

Ejemplares similares