Resistividad eléctrica de películas delgadas de oro obtenidas por ión-plating

Mostrar todas las versiones(2)

Es sabido que la resistividad eléctrica de las películas delgadas es mayor que la del material en volumen aún para espesores para los cuales el efecto Fuchs-Sondheimer es despreciable. En este caso, la mayor contribución a la resistividad se debe a impurezas y defectos cristalinos. Por eso es intere...

Descripción completa

Guardado en:
Detalles Bibliográficos
Autores principales: Broitman, Esteban Daniel, Latorre, Daniel Fernando, Zimmerman, Rosa
Formato: Artículo publishedVersion
Lenguaje:Español
Publicado: Asociación Física Argentina 1991
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v03_n01_p357
Aporte de:
Biblioteca Digital - Facultad de Ciencias Exactas y Naturales (UBA) de Universidad de Buenos Aires
id afa:afa_v03_n01_p357
record_format dspace
spelling afa:afa_v03_n01_p3572025-03-11T11:24:09Z Resistividad eléctrica de películas delgadas de oro obtenidas por ión-plating An. (Asoc. Fís. Argent., En línea) 1991;01(03):357-360 Broitman, Esteban Daniel Latorre, Daniel Fernando Zimmerman, Rosa Es sabido que la resistividad eléctrica de las películas delgadas es mayor que la del material en volumen aún para espesores para los cuales el efecto Fuchs-Sondheimer es despreciable. En este caso, la mayor contribución a la resistividad se debe a impurezas y defectos cristalinos. Por eso es interesante hacer mediciones eléctricas en películas en que se pueda establecer la variación de la resistividad con la concentración de defectos, en especial bordes de grano. Esto puede lograrse comparando películas depositadas en vacío y por ion-plating porque esta última produce películas con tamaño de grano significativamente menor que las evaporadas en vacío. En este trabajo se presentan mediciones de la resistividad de películas continuas de oro obtenidas por ambas técnicas, antes y después de tratamientos técnicos. El tamaño de grano de las películas fue observado por microscopía electrónica. Se discuten los resultados en función de la contribución a la resistividad del scattering en los bordes de grano Fil: Broitman, Esteban Daniel. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Buenos Aires. Argentina Fil: Latorre, Daniel Fernando. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Buenos Aires. Argentina Fil: Zimmerman, Rosa. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Buenos Aires. Argentina Asociación Física Argentina 1991 info:ar-repo/semantics/artículo info:eu-repo/semantics/article info:eu-repo/semantics/publishedVersion application/pdf spa info:eu-repo/semantics/openAccess https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v03_n01_p357
institution Universidad de Buenos Aires
institution_str I-28
repository_str R-134
collection Biblioteca Digital - Facultad de Ciencias Exactas y Naturales (UBA)
language Español
orig_language_str_mv spa
description Es sabido que la resistividad eléctrica de las películas delgadas es mayor que la del material en volumen aún para espesores para los cuales el efecto Fuchs-Sondheimer es despreciable. En este caso, la mayor contribución a la resistividad se debe a impurezas y defectos cristalinos. Por eso es interesante hacer mediciones eléctricas en películas en que se pueda establecer la variación de la resistividad con la concentración de defectos, en especial bordes de grano. Esto puede lograrse comparando películas depositadas en vacío y por ion-plating porque esta última produce películas con tamaño de grano significativamente menor que las evaporadas en vacío. En este trabajo se presentan mediciones de la resistividad de películas continuas de oro obtenidas por ambas técnicas, antes y después de tratamientos técnicos. El tamaño de grano de las películas fue observado por microscopía electrónica. Se discuten los resultados en función de la contribución a la resistividad del scattering en los bordes de grano
format Artículo
Artículo
publishedVersion
author Broitman, Esteban Daniel
Latorre, Daniel Fernando
Zimmerman, Rosa
spellingShingle Broitman, Esteban Daniel
Latorre, Daniel Fernando
Zimmerman, Rosa
Resistividad eléctrica de películas delgadas de oro obtenidas por ión-plating
author_facet Broitman, Esteban Daniel
Latorre, Daniel Fernando
Zimmerman, Rosa
author_sort Broitman, Esteban Daniel
title Resistividad eléctrica de películas delgadas de oro obtenidas por ión-plating
title_short Resistividad eléctrica de películas delgadas de oro obtenidas por ión-plating
title_full Resistividad eléctrica de películas delgadas de oro obtenidas por ión-plating
title_fullStr Resistividad eléctrica de películas delgadas de oro obtenidas por ión-plating
title_full_unstemmed Resistividad eléctrica de películas delgadas de oro obtenidas por ión-plating
title_sort resistividad eléctrica de películas delgadas de oro obtenidas por ión-plating
publisher Asociación Física Argentina
publishDate 1991
url https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v03_n01_p357
work_keys_str_mv AT broitmanestebandaniel resistividadelectricadepeliculasdelgadasdeoroobtenidasporionplating
AT latorredanielfernando resistividadelectricadepeliculasdelgadasdeoroobtenidasporionplating
AT zimmermanrosa resistividadelectricadepeliculasdelgadasdeoroobtenidasporionplating
_version_ 1831980643987226624

Ejemplares similares