Morfología y estabilidad térmica de películas delgadas de fluoruro de aluminio sobre Cu(100)

Mostrar todas las versiones(2)

Se estudió el crecimiento de películas epitaxiales ultra-delgadas de fluoruro de aluminio en Cu(100) mediante una combinación de técnicas experimentales de física de superficies. La deposición a temperatura ambiente resulta en la decoración de escalones seguida por la formación de islas dendríticas...

Descripción completa

Guardado en:
Detalles Bibliográficos
Autores principales: Ruano, G., Moreno-López, J. C., Passeggi, M. C. G., Vidal, R. A., Ferron, Julio, Niño, M. A., Miranda, R., Miguel, Juan José de
Lenguaje:Español
Publicado: 2011
Materias:
FLUORURO DE ALUMINIO
PELICULAS ULTRA-DELGADAS
ESTABILIDAD TERMICA
RADIOLISIS
ESPINTRONICA
ALUMINIUM FLUORIDE
ULTRATHIN LAYERS
THERMAL STABILITY
RADIOLYSIS
SPINTRONICS
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v23_n02_p085
Aporte de:
Biblioteca Digital - Facultad de Ciencias Exactas y Naturales (UBA) de Universidad de Buenos Aires
id todo:afa_v23_n02_p085
record_format dspace
institution Universidad de Buenos Aires
institution_str I-28
repository_str R-134
collection Biblioteca Digital - Facultad de Ciencias Exactas y Naturales (UBA)
language Español
orig_language_str_mv Español
topic FLUORURO DE ALUMINIO
PELICULAS ULTRA-DELGADAS
ESTABILIDAD TERMICA
RADIOLISIS
ESPINTRONICA
ALUMINIUM FLUORIDE
ULTRATHIN LAYERS
THERMAL STABILITY
RADIOLYSIS
SPINTRONICS
spellingShingle FLUORURO DE ALUMINIO
PELICULAS ULTRA-DELGADAS
ESTABILIDAD TERMICA
RADIOLISIS
ESPINTRONICA
ALUMINIUM FLUORIDE
ULTRATHIN LAYERS
THERMAL STABILITY
RADIOLYSIS
SPINTRONICS
Ruano, G.
Moreno-López, J. C.
Passeggi, M. C. G.
Vidal, R. A.
Ferron, Julio
Niño, M. A.
Miranda, R.
Miguel, Juan José de
Morfología y estabilidad térmica de películas delgadas de fluoruro de aluminio sobre Cu(100)
topic_facet FLUORURO DE ALUMINIO
PELICULAS ULTRA-DELGADAS
ESTABILIDAD TERMICA
RADIOLISIS
ESPINTRONICA
ALUMINIUM FLUORIDE
ULTRATHIN LAYERS
THERMAL STABILITY
RADIOLYSIS
SPINTRONICS
description Se estudió el crecimiento de películas epitaxiales ultra-delgadas de fluoruro de aluminio en Cu(100) mediante una combinación de técnicas experimentales de física de superficies. La deposición a temperatura ambiente resulta en la decoración de escalones seguida por la formación de islas dendríticas bidimensionales que coalescen para formar películas porosas. Las películas ultra-delgadas (de hasta dos monocapas de espesor) resultan morfológicamente inestables al calentar; parte de la película deja de mojar la superficie del sustrato a alrededor de 430 K con la formación de islas tridimensionales y dejando expuesta un área extensa de la superficie de Cu. En cambio, películas de varios nanómetros de espesor son estables hasta temperaturas cercanas a los 730 K cuando ocurre la desorción molecular. El efecto de la irradiación electrónica también ha sido caracterizado mediante diferentes técnicas espectroscópicas; encontrando que incluso dosis de irradiación reducidas de electrones pueden producir una descomposición significativa del fluoruro de aluminio, resultando en la liberación de moléculas de flúor y la formación de aluminio metálico. Estas características hacen del fluoruro de aluminio un material interesante para aplicaciones en espintrónica
author Ruano, G.
Moreno-López, J. C.
Passeggi, M. C. G.
Vidal, R. A.
Ferron, Julio
Niño, M. A.
Miranda, R.
Miguel, Juan José de
author_facet Ruano, G.
Moreno-López, J. C.
Passeggi, M. C. G.
Vidal, R. A.
Ferron, Julio
Niño, M. A.
Miranda, R.
Miguel, Juan José de
author_sort Ruano, G.
title Morfología y estabilidad térmica de películas delgadas de fluoruro de aluminio sobre Cu(100)
title_short Morfología y estabilidad térmica de películas delgadas de fluoruro de aluminio sobre Cu(100)
title_full Morfología y estabilidad térmica de películas delgadas de fluoruro de aluminio sobre Cu(100)
title_fullStr Morfología y estabilidad térmica de películas delgadas de fluoruro de aluminio sobre Cu(100)
title_full_unstemmed Morfología y estabilidad térmica de películas delgadas de fluoruro de aluminio sobre Cu(100)
title_sort morfología y estabilidad térmica de películas delgadas de fluoruro de aluminio sobre cu(100)
publishDate 2011
url https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v23_n02_p085
work_keys_str_mv AT ruanog morfologiayestabilidadtermicadepeliculasdelgadasdefluorurodealuminiosobrecu100
AT morenolopezjc morfologiayestabilidadtermicadepeliculasdelgadasdefluorurodealuminiosobrecu100
AT passeggimcg morfologiayestabilidadtermicadepeliculasdelgadasdefluorurodealuminiosobrecu100
AT vidalra morfologiayestabilidadtermicadepeliculasdelgadasdefluorurodealuminiosobrecu100
AT ferronjulio morfologiayestabilidadtermicadepeliculasdelgadasdefluorurodealuminiosobrecu100
AT ninoma morfologiayestabilidadtermicadepeliculasdelgadasdefluorurodealuminiosobrecu100
AT mirandar morfologiayestabilidadtermicadepeliculasdelgadasdefluorurodealuminiosobrecu100
AT migueljuanjosede morfologiayestabilidadtermicadepeliculasdelgadasdefluorurodealuminiosobrecu100
AT ruanog morphologyandthermalstabilityofalf3oncu100thinfilms
AT morenolopezjc morphologyandthermalstabilityofalf3oncu100thinfilms
AT passeggimcg morphologyandthermalstabilityofalf3oncu100thinfilms
AT vidalra morphologyandthermalstabilityofalf3oncu100thinfilms
AT ferronjulio morphologyandthermalstabilityofalf3oncu100thinfilms
AT ninoma morphologyandthermalstabilityofalf3oncu100thinfilms
AT mirandar morphologyandthermalstabilityofalf3oncu100thinfilms
AT migueljuanjosede morphologyandthermalstabilityofalf3oncu100thinfilms
_version_ 1807316459173445632
spelling todo:afa_v23_n02_p0852023-10-03T13:24:21Z Morfología y estabilidad térmica de películas delgadas de fluoruro de aluminio sobre Cu(100) Morphology and thermal stability of alf3 on Cu(100) thin films Ruano, G. Moreno-López, J. C. Passeggi, M. C. G. Vidal, R. A. Ferron, Julio Niño, M. A. Miranda, R. Miguel, Juan José de FLUORURO DE ALUMINIO PELICULAS ULTRA-DELGADAS ESTABILIDAD TERMICA RADIOLISIS ESPINTRONICA ALUMINIUM FLUORIDE ULTRATHIN LAYERS THERMAL STABILITY RADIOLYSIS SPINTRONICS Se estudió el crecimiento de películas epitaxiales ultra-delgadas de fluoruro de aluminio en Cu(100) mediante una combinación de técnicas experimentales de física de superficies. La deposición a temperatura ambiente resulta en la decoración de escalones seguida por la formación de islas dendríticas bidimensionales que coalescen para formar películas porosas. Las películas ultra-delgadas (de hasta dos monocapas de espesor) resultan morfológicamente inestables al calentar; parte de la película deja de mojar la superficie del sustrato a alrededor de 430 K con la formación de islas tridimensionales y dejando expuesta un área extensa de la superficie de Cu. En cambio, películas de varios nanómetros de espesor son estables hasta temperaturas cercanas a los 730 K cuando ocurre la desorción molecular. El efecto de la irradiación electrónica también ha sido caracterizado mediante diferentes técnicas espectroscópicas; encontrando que incluso dosis de irradiación reducidas de electrones pueden producir una descomposición significativa del fluoruro de aluminio, resultando en la liberación de moléculas de flúor y la formación de aluminio metálico. Estas características hacen del fluoruro de aluminio un material interesante para aplicaciones en espintrónica The growth of ultrathin epitaxial layers of aluminium fluoride on Cu(100) has been studied by a combination of surface science techniques. Deposition at room temperature results in step decoration followed by the formation of dendritic two-dimensional islands that coalesce to form porous films. Ultrathin layers (up to 2 monolayers in thickness) are morphologically unstable upon annealing; de-wetting takes place around 430 K with the formation of three-dimensional islands and leaving a large fraction of the Cu surface uncovered. Films several nanometers thick, on the contrary, are stable up to ca. 730 K where desorption in molecular form sets on. The effect of electron irradiation on the AlF3 has also been characterized by different spectroscopic techniques; we find that even small irradiation doses can provoke significant decomposition of the aluminium fluoride, resulting in the release of molecular fluorine and the formation of deposits of metallic aluminium. These features make AlF3 an interesting material for spintronic applications Fil: Ruano, G.. Universidad Nacional del Litoral - CONICET. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC). Santa Fe. Argentina Fil: Moreno-López, J. C.. Universidad Nacional del Litoral - CONICET. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC). Santa Fe. Argentina Fil: Passeggi, M. C. G.. Universidad Nacional del Litoral - CONICET. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC). Santa Fe. Argentina Fil: Vidal, R. A.. Universidad Nacional del Litoral - CONICET. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC). Santa Fe. Argentina Fil: Ferron, Julio. Universidad Nacional del Litoral - CONICET. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC). Santa Fe. Argentina Fil: Niño, M. A.. Universidad Nacional del Litoral - CONICET. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC). Santa Fe. Argentina Fil: Miranda, R.. Universidad Nacional del Litoral - CONICET. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC). Santa Fe. Argentina Fil: Miguel, Juan José de. Universidad Nacional del Litoral - CONICET. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC). Santa Fe. Argentina 2011 PDF Español info:eu-repo/semantics/openAccess https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v23_n02_p085

Ejemplares similares